具體工藝對溫度的要求以后還要列舉，但作為總的原則看，由于加工精度越來越精細，所以對溫度波動范圍的要求越來越小。例如在大規(guī)模集成電路生產的光刻曝光工藝中，作為掩膜板材料的玻璃與硅片的熱膨脹系數(shù)的差要求越來越小。直徑100um的硅片，溫度上升1度，就引起了0.24um線性膨脹，所以必須有±0.1度的恒溫，同時要求濕度值一般較低，因為人出汗以后，對產品將有污染，特別是怕鈉的半導體車間，這種車間不宜超過25度。

　　空氣潔凈度等級標準及規(guī)范

　　經濟和科技發(fā)達的國家和地區(qū)都有自己的空氣潔凈標準和規(guī)范標準，都規(guī)定了有關的潔凈度等級，例如美國、日本、西歐、北歐、俄羅斯等。我國于1984年頒布《潔凈廠房設計規(guī)范》（GBJ73-84），1996年該規(guī)范進行了較大的修改，1990年頒布《潔凈室施工及驗收規(guī)范》（JGJ71-90）以指導施工和驗收的重要文件。目前，該規(guī)范在重新修訂中。

　　大部分凈化車間尤其電子工業(yè)用的潔凈廠房都有嚴格的恒溫、恒濕的要求，不僅對廠房內的溫、濕度有嚴格的要求，而且對溫度和相對濕度的波動范圍也有嚴格的要求。因此，在凈化空調系統(tǒng)的空氣處理上要采取相應的措施，例如：夏季要降溫、去濕（因為夏季室外空氣是高溫、高濕的），冬季要加熱加濕（因為冬季室外空氣是寒冷干燥的，室內濕度過低會產生靜電，靜電對電子產品的生產是致命的）。